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Testing of materials for semiconductor technology; determination of impurities in carrier gases and doping gases; determination of oxygen impurity in N2, Ar, He, Ne and H2 by using a galvanic cell.
(Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie; Bestimmung von Verunreinigungen in Träger- und Dotiergasen; Bestimmung der Sauerstoffverunreinigung in Stickstoff, Argon, Helium, Neon und Wasserstoff mittels einer galvanischen Meßzelle.)
Verfügbare Sprachen: Deutsch
Verfügbare Ausführung: Gedruckt
Bezeichnung: E DIN 50450-2:1989-12
Ausgabedatum: 01.12.1989
Seiten: 4
Anmerkung: Ungültige
Land: Deutsche technische Norm