Potřebujeme Váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se Vám mimo jiné mohli ukazovat informace týkající se Vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Practice for conversion between resistivity and dopant density for boron-doped, phosphorus-doped, and arsenic-doped silicon
Available languages: English, Chinese
Available design: electronic design (pdf), Print design
Designation: GB/T 13389-2014
Publication date: 31/12/2014
Pages: 0
Country: Chinese technical standard