Potřebujeme Váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se Vám mimo jiné mohli ukazovat informace týkající se Vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Semiconductor devices. Micro-electromechanical devices. Silicon based MEMS fabrication technology. Measurement method of impact resistance of nanostructures.
Dostupné jazyky: Anglicky
Dostupné prevedenie: PDF - okamžité stiahnutie, Tlačené
Označenie: BS IEC 62047-45:2025
Dátum vydania: 01.04.2025
Stránok: 18
Krajina: Britská technická norma