Aktívna norma | Vydaná: 01.03.2026

DIN 50450-2:2026-03

Testing of materials for semiconductor technology - Determination of impurities in carrier gases and dopant gases - Part 2: Determination of Oxygen impurities in Nitrogen, Argon, Helium, Neon and Hydrogen using a galvanic cell.
(Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Verunreinigungen in Träger- und Dotiergasen - Teil 2: Bestimmung der Sauerstoffverunreinigung in Stickstoff, Argon, Helium, Neon und Wasserstoff mittels einer galvanischen Messzelle.)

Dostupné jazyky: Nemecky

Dostupné prevedenie: PDF - okamžité stiahnutie, Tlačené

od 48.80 EUR zobraziť na eshopu

Podrobné informácie

Označenie: DIN 50450-2:2026-03

Dátum vydania: 01.03.2026

Stránok: 9

Krajina: Nemecká technická norma

Kde kúpiť?

Môžete zakúpiť na eshop.normservis.sk

Anotácia

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Verunreinigungen in Träger- und Dotiergasen - Teil 2: Bestimmung der Sauerstoffverunreinigung in Stickstoff, Argon, Helium, Neon und Wasserstoff mittels einer galvanischen Messzelle.

Populárna vydavatelia

celý katalóg