Potřebujeme Váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se Vám mimo jiné mohli ukazovat informace týkající se Vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Semiconductor devices—Micro-electromechanical devices—Part 21: Test method for Poisson""s ratio of thin film MEMS materials
Dostupné jazyky: Anglicky a čínsky
Dostupné prevedenie: Elektronické PDF, Tlačené
Označenie: GB/T 42709.21-2026
Dátum vydania: 30.07.2026
Stránok: 0
Krajina: Čínska technická norma