IEC/TS 62607-6-8-ed.1.0 img
Aktívna norma | Vydaná: 07.06.2023

IEC/TS 62607-6-8-ed.1.0

Nanomanufacturing - Key control characteristics - Part 6-8: Graphene - Sheet resistance: In-line four-point probe

Dostupné jazyky: Anglicky

Dostupné prevedenie: Elektronické PDF, Tlačené, CD-ROM

od 206.40 EUR zobraziť na eshopu

Podrobné informácie

Označenie: IEC/TS 62607-6-8-ed.1.0

Dátum vydania: 07.06.2023

Stránok: 22

Krajina: Medzinárodná technická norma

Kde kúpiť?

Môžete zakúpiť na eshop.normservis.sk

Anotácia

IEC TS 62607-6-8:2023 establishes a method to determine the key control characteristic sheet resistance RS [measured in ohm per square (ohm/sq)], by the in-line four-point probe method, 4PP. The sheet resistance RS is derived by measurements of four-terminal electrical resistance performed on four electrodes placed on the surface of the planar sample. The measurement range for RS of the graphene samples with the method described in this document goes from 10-2 ohm/sq to 104 ohm/sq. The method is applicable for CVD graphene provided it is transferred to quartz substrates or other insulating materials (quartz, SiO2 on Si, as well as graphene grown from silicon carbide. The method is complementary to the van der Pauw method (IEC 62607-6-7) for what concerns the measurement of the sheet resistance and can be useful when it is not possible to reliably place contacts on the sample boundary.
Loading
Cookies Cookies

Potřebujeme Váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se Vám mimo jiné mohli ukazovat informace týkající se Vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.

Souhlas můžete odmítnout zde.

Zde máte možnost přizpůsobit si nastavení souborů cookies v souladu s vlastními preferencemi.

Potřebujeme Váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se Vám mimo jiné mohli ukazovat informace týkající se Vašich zájmů.