ISO 17109:2022-ed.2.0

Surface chemical analysis — Depth profiling — Method for sputter rate determination in X-ray photoelectron spectroscopy, Auger electron spectroscopy and secondary-ion mass spectrometry sputter depth profiling using single and multi-layer thin films
(Analyse chimique des surfaces — Profilage d´épaisseur — Méthode pour la détermination de la vitesse de pulvérisation lors du profilage d´épaisseur par pulvérisation en spectroscopie de photoélectrons par rayons X, spectroscopie d´électrons Auger et spectrométrie de masse des ions secondaires a l´aide de films minces multicouches)

Dostupné jazyky: Anglicky

Dostupné prevedenie: Elektronické PDF, Tlačené