Potřebujeme Váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se Vám mimo jiné mohli ukazovat informace týkající se Vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Surface chemical analysis — Secondary-ion mass spectrometry — Method for depth calibration for silicon using multiple delta-layer reference materials
(Analyse chimique des surfaces — Spectrométrie de masse des ions secondaires — Méthode pour l´étalonnage de la profondeur pour le silicium a l´aide de matériaux de référence a couches delta multiples)
Dostupné jazyky: Anglicky, Francouzsky
Dostupné provedení: Elektronické PDF, Tištěné
Označení: ISO 23812:2009
Datum vydání: 08.04.2009
Stran: 19
Země: Mezinárodní technická norma