Aktiv Normen | Herausgegeben: 01.08.2023

DIN 50453-2:2023-08

Testing of materials for semiconductor technology - Determination of etch rates of etching mixtures - Part 2: Silicon-dioxide coating, optical method.
(Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung der Ätzrate von Ätzmischungen - Teil 2: Siliciumdioxid-Schichten, Optisches Verfahren.)

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Detailinformationen

Bezeichnung: DIN 50453-2:2023-08

Ausgabedatum: 01.08.2023

Seiten: 9

Land: Deutsche technische Norm

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Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung der Ätzrate von Ätzmischungen - Teil 2: Siliciumdioxid-Schichten, Optisches Verfahren.

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