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Active standard | Published: 01/08/2023
DIN 50453-2:2023-08
Testing of materials for semiconductor technology - Determination of etch rates of etching mixtures - Part 2: Silicon-dioxide coating, optical method.
(Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung der Ätzrate von Ätzmischungen - Teil 2: Siliciumdioxid-Schichten, Optisches Verfahren.)
Available languages: German
Available design: PDF - Immediate download, Print design
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Detail information
Designation: DIN 50453-2:2023-08
Publication date: 01/08/2023
Pages: 9
Country: German technical standard
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