Aktiv Normen | Herausgegeben: 01.10.2009

DIN 50455-1:2009-10

Testing of materials for semiconductor technology - Methods for characterizing photoresists - Part 1: Determination of coating thickness with optical methods.
(Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Verfahren zur Charakterisierung von Fotolacken - Teil 1: Bestimmung der Schichtdicke mit optischen Messverfahren.)

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Detailinformationen

Bezeichnung: DIN 50455-1:2009-10

Ausgabedatum: 01.10.2009

Seiten: 8

Land: Deutsche technische Norm

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Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Verfahren zur Charakterisierung von Fotolacken - Teil 1: Bestimmung der Schichtdicke mit optischen Messverfahren.

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