Aktiv Normen | Herausgegeben: 01.11.1999

DIN 50455-2:1999-11

Testing of materials for semiconductor technology - Methods for the characterisation photoresists - Part 2: Determination of photosensitivity of positive photoresists.
(Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Verfahren zur Charakterisierung von Fotolacken - Teil 2: Bestimmung der Lichtempfindlichkeit von Positiv-Fotolacken.)

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Detailinformationen

Bezeichnung: DIN 50455-2:1999-11

Ausgabedatum: 01.11.1999

Seiten: 4

Land: Deutsche technische Norm

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Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Verfahren zur Charakterisierung von Fotolacken - Teil 2: Bestimmung der Lichtempfindlichkeit von Positiv-Fotolacken.

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