Potřebujeme Váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se Vám mimo jiné mohli ukazovat informace týkající se Vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Silicon-based MEMS fabrication technology—Specification for criterion of the combination of the deep etching and bonding process
Verfügbare Sprachen: English, Chinesisch
Verfügbare Ausführung: Elektronische PDF, Gedruckt
Bezeichnung: GB/T 32816-2016
Ausgabedatum: 29.08.2016
Seiten: 0
Land: Chinesische technische Norm