Potřebujeme Váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se Vám mimo jiné mohli ukazovat informace týkající se Vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Silicon-based MEMS fabrication technology—Specification for criterion of the combination of the deep etching and bonding process
Dostupné jazyky: Anglicky a čínsky
Dostupné prevedenie: Elektronické PDF, Tlačené
Označenie: GB/T 32816-2016
Dátum vydania: 29.08.2016
Stránok: 0
Krajina: Čínska technická norma