Aktiv Normen | Herausgegeben: 13.12.2019

ISO 21466:2019

Microbeam analysis — Scanning electron microscopy — Method for evaluating critical dimensions by CD-SEM
(Analyse par microfaisceaux — Méthode d’évaluation des dimensions critiques par CD-SEM)

Verfügbare Sprachen: Englisch

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Detailinformationen

Bezeichnung: ISO 21466:2019

Ausgabedatum: 13.12.2019

Seiten: 47

Land: Internationale technische Norm

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Annotation

Description / Abstract: This document specifies the structure model with related parameters, file format and fitting procedure for characterizing critical dimension (CD) values for wafer and photomask by imaging with a critical dimension scanning electron microscope (CD-SEM) by the model-based library (MBL) method. The method is applicable to linewidth determination for specimen, such as, gate on wafer, photomask, single isolated or dense line feature pattern down to size of 10 nm.

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