Aktivní norma | Vydána: 13.12.2019

ISO 21466:2019

Microbeam analysis — Scanning electron microscopy — Method for evaluating critical dimensions by CD-SEM
(Analyse par microfaisceaux — Méthode d’évaluation des dimensions critiques par CD-SEM)

Dostupné jazyky: Anglicky

Dostupné provedení: Elektronické PDF, Tištěné

od 268.00 USD zobrazit na eshopu

Podrobné informace

Označení: ISO 21466:2019

Datum vydání: 13.12.2019

Stran: 47

Země: Mezinárodní technická norma

Kde koupit?

Můžete zakoupit na eshop.normservis.cz

Anotace

Description / Abstract: This document specifies the structure model with related parameters, file format and fitting procedure for characterizing critical dimension (CD) values for wafer and photomask by imaging with a critical dimension scanning electron microscope (CD-SEM) by the model-based library (MBL) method. The method is applicable to linewidth determination for specimen, such as, gate on wafer, photomask, single isolated or dense line feature pattern down to size of 10 nm.

Populární vydavatelé

celý katalog