Potřebujeme Váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se Vám mimo jiné mohli ukazovat informace týkající se Vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Semiconductor devices. Micro-electromechanical devices. Test methods for determining residual stresses of MEMS films. Wafer curvature and cantilever beam deflection methods.
Available languages: English
Available design: PDF - Immediate download, Print design
Designation: BS EN 62047-16:2015
Publication date: 31/07/2015
Pages: 18
Country: British technical standard