Potřebujeme Váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se Vám mimo jiné mohli ukazovat informace týkající se Vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Surface chemical analysis — X-ray photoelectron spectroscopy — Measurement of silicon oxide thickness
(Analyse chimique des surfaces — Spectroscopie de photoélectrons par rayons X — Mesurage de l´épaisseur d´oxyde de silicium)
Available languages: English
Available design: electronic design (pdf), Print design
Designation: ISO 14701:2018-ed.2.0
Publication date: 31/10/2018
Pages: 17
Country: International technical standard