Potřebujeme Váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se Vám mimo jiné mohli ukazovat informace týkající se Vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Standard Test Methods for Oxygen Precipitation Characterization of Silicon Wafers by Measurement of Interstitial Oxygen Reduction (Withdrawn 2003)
Dostupné jazyky: Anglicky
Dostupné prevedenie: Online zabezpečené PDF
Označenie: ASTM F1239-02
Dátum vydania: 10.01.2002
Stránok: 5
Poznámka: Neplatné
Krajina: Americká technická norma