Potřebujeme Váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se Vám mimo jiné mohli ukazovat informace týkající se Vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Surface chemical analysis. Secondary-ion mass spectrometry. Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials.
Dostupné jazyky: Anglicky
Dostupné prevedenie: PDF - okamžité stiahnutie, Tlačené
Označenie: BS ISO 14237:2010
Dátum vydania: 31.08.2010
Stránok: 30
Krajina: Britská technická norma