Potřebujeme Váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se Vám mimo jiné mohli ukazovat informace týkající se Vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Surface chemical analysis. Secondary-ion mass spectrometry. Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials.
Dostupné jazyky: Anglicky
Dostupné provedení: PDF - okamžité stažení, Tištěné
Označení: BS ISO 14237:2010
Datum vydání: 31.08.2010
Stran: 30
Země: Britská technická norma