Potřebujeme Váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se Vám mimo jiné mohli ukazovat informace týkající se Vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Testing of materials for semiconductor technology; determination of impurities in carrier gases and doping gases; determination of oxygen impurity in N2, Ar, He, Ne and H2 by using a galvanic cell.
(Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie; Bestimmung von Verunreinigungen in Träger- und Dotiergasen; Bestimmung der Sauerstoffverunreinigung in Stickstoff, Argon, Helium, Neon und Wasserstoff mittels einer galvanischen Meßzelle.)
Dostupné jazyky: Nemecky
Dostupné prevedenie: Tlačené
Označenie: E DIN 50450-2:1989-12
Dátum vydania: 01.12.1989
Stránok: 4
Poznámka: Neplatné
Krajina: Nemecká technická norma