Potřebujeme Váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se Vám mimo jiné mohli ukazovat informace týkající se Vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 16: Test methods for determining residual stresses of MEMS films ÔÇô Wafer curvature and cantilever beam deflection methods
Dostupné jazyky: Anglicky
Dostupné prevedenie: Tlačené
Označenie: STN EN 62047-16
Dátum vydania: 01.12.2015
Stránok: 0
Krajina: Slovenská technická norma