Potřebujeme Váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se Vám mimo jiné mohli ukazovat informace týkající se Vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Semiconductor devices. Time-dependent dielectric breakdown (TDDB) test for inter-metal layers.
(Polovodičové součástky - Část 1: Zkouška časově závislého průrazu dielektrika pro intermetalické vrstvy. )
Dostupné jazyky: Anglicky
Dostupné provedení: PDF - okamžité stažení, Tištěné
Označení: BS EN 62374-1:2010
Datum vydání: 30.06.2011
Stran: 20
Země: Britská technická norma