Potřebujeme Váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se Vám mimo jiné mohli ukazovat informace týkající se Vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Tracked Changes. Surface chemical analysis. Depth profiling. Method for sputter rate determination in X-ray photoelectron spectroscopy, Auger electron spectroscopy and secondary-ion mass spectrometry sputter dept profiling using single and multi-layer thin films.
Dostupné jazyky: Anglicky
Dostupné provedení: PDF - okamžité stažení, Tištěné
Označení: BS ISO 17109:2022-TC
Datum vydání: 03.01.2023
Stran: 68
Země: Britská technická norma