Aktivní norma | Vydána: 08.11.2010

ISO 12406:2010

Surface chemical analysis — Secondary-ion mass spectrometry — Method for depth profiling of arsenic in silicon
(Analyse chimique des surfaces — Spectrométrie de masse des ions secondaires — Dosage de l´arsenic dans le silicium par profilage d´épaisseur)

Dostupné jazyky: Anglicky

Dostupné provedení: Elektronické PDF, Tištěné

od 3 157.00 CZK zobrazit na eshopu

Podrobné informace

Označení: ISO 12406:2010

Datum vydání: 08.11.2010

Stran: 13

Země: Mezinárodní technická norma

Kde koupit?

Můžete zakoupit na eshop.normservis.cz

Anotace

Description / Abstract: ISO 12406:2010 specifies a secondary-ion mass spectrometric method using magnetic-sector or quadrupole mass spectrometers for depth profiling of arsenic in silicon, and using stylus profilometry or optical interferometry for depth calibration. This method is applicable to single-crystal, poly-crystal or amorphous silicon specimens with arsenic atomic concentrations between 1 x 1016 atoms/cm3 and 2,5 x 1021 atoms/cm3, and to crater depths of 50 nm or deeper.

Populární vydavatelé

celý katalog