Potřebujeme Váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se Vám mimo jiné mohli ukazovat informace týkající se Vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Semiconductor devices -- Part 1: Time-dependent dielectric breakdown (TDDB) test for inter-metal layers (Endorsed by AENOR in March of 2011.)
(Polovodičové součástky - Část 1: Zkouška časově závislého průrazu dielektrika pro intermetalické vrstvy.)
Dostupné jazyky: Anglicky
Dostupné provedení: Elektronické PDF, Tištěné
Označení: UNE-EN 62374-1:2010
Datum vydání: 01.03.2011
Stran: 19
Země: Španělská technická norma