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JIS - Japanische technische Standards
Seite 658
JIS K0139:2026 (23.03.2026)
General rules for laser ablation ICP spectrometry
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JIS K0141:2000 (31.10.2000)
Surface chemical analysis -- Data transfer format
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JIS K0142:2000 (31.10.2000)
Surface chemical analysis -- Information formats
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JIS K0143:2023 (20.02.2023)
Surface chemical analysis -- Secondary-ion mass spectrometry -- Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials
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JIS K0144:2018 (20.02.2018)
Surface chemical analysis -- Glow discharge optical emission spectrometry (GD-OES) -- Introduction to use
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JIS K0145:2002 (30.04.2002)
Surface chemical analysis -- X-ray photoelectron spectrometers -- Calibration of energy scales
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JIS K0146:2002 (30.04.2002)
Surface chemical analysis -- Sputter depth profiling -- Optimization using layered systems as reference materials
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JIS K0147-1:2017 (21.08.2017)
Surface chemical analysis -- Vocabulary -- Part 1: General terms and terms used in spectroscopy
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JIS K0147-2:2017 (21.08.2017)
Surface chemical analysis -- Vocabulary -- Part 2: Terms used in scanning-probe microscopy
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JIS K0148:2026 (20.01.2026)
Surface chemical analysis-Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
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