Cookies
Potřebujeme Váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se Vám mimo jiné mohli ukazovat informace týkající se Vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
JIS - Japonské technické normy
Strana 658
JIS K0139:2026 (23.03.2026)
General rules for laser ablation ICP spectrometry
Dostupné jazyky: Japonsky
Dostupné provedení: Elektronické PDF, Tištěné
od 2 915.40 USD více informací
JIS K0141:2000 (31.10.2000)
Surface chemical analysis -- Data transfer format
Dostupné jazyky: Japonsky
Dostupné provedení: Elektronické PDF, Tištěné
od 5 943.00 USD více informací
JIS K0142:2000 (31.10.2000)
Surface chemical analysis -- Information formats
Dostupné jazyky: Japonsky
Dostupné provedení: Elektronické PDF, Tištěné
od 2 915.40 USD více informací
JIS K0143:2023 (20.02.2023)
Surface chemical analysis -- Secondary-ion mass spectrometry -- Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials
Dostupné jazyky: Japonsky
Dostupné provedení: Elektronické PDF, Tištěné
od 3 364.00 USD více informací
JIS K0144:2018 (20.02.2018)
Surface chemical analysis -- Glow discharge optical emission spectrometry (GD-OES) -- Introduction to use
Dostupné jazyky: Japonsky
Dostupné provedení: Elektronické PDF, Tištěné
od 2 915.40 USD více informací
JIS K0145:2002 (30.04.2002)
Surface chemical analysis -- X-ray photoelectron spectrometers -- Calibration of energy scales
Dostupné jazyky: Japonsky
Dostupné provedení: Elektronické PDF, Tištěné
od 4 597.40 USD více informací
JIS K0146:2002 (30.04.2002)
Surface chemical analysis -- Sputter depth profiling -- Optimization using layered systems as reference materials
Dostupné jazyky: Japonsky
Dostupné provedení: Elektronické PDF, Tištěné
od 3 364.00 USD více informací
JIS K0147-1:2017 (21.08.2017)
Surface chemical analysis -- Vocabulary -- Part 1: General terms and terms used in spectroscopy
Dostupné jazyky: Japonsky
Dostupné provedení: Elektronické PDF, Tištěné
od 7 064.30 USD více informací
JIS K0147-2:2017 (21.08.2017)
Surface chemical analysis -- Vocabulary -- Part 2: Terms used in scanning-probe microscopy
Dostupné jazyky: Japonsky
Dostupné provedení: Elektronické PDF, Tištěné
od 5 718.80 USD více informací
JIS K0148:2026 (20.01.2026)
Surface chemical analysis-Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
Dostupné jazyky: Japonsky
Dostupné provedení: Elektronické PDF, Tištěné
od 8 073.50 USD více informací
Copyright © All rights reserved | This template is made with by Colorlib
