Ungültige | Herausgegeben: 10.12.2000

ASTM F110-00a Ungültige

Standard Test Method for Thickness of Epitaxial or Diffused Layers in Silicon by the Angle Lapping and Staining Technique (Withdrawn 2003) (Includes all amendments And changes 8/16/2017).

Verfügbare Sprachen: Englisch

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Detailinformationen

Bezeichnung: ASTM F110-00a

Ausgabedatum: 10.12.2000

Seiten: 4

Anmerkung: Ungültige

Land: Amerikanische technische Norm

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Erhältlich auf www.technormen.de

Annotation

Keywords:
angle lapping, diffused layer, epitaxial layer, etching, fringe count, staining, thickness, ICS Number Code 29.045 (Semiconducting materials)

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