Neplatná | Vydána: 10.12.2000

ASTM F110-00a Neplatná

Standard Test Method for Thickness of Epitaxial or Diffused Layers in Silicon by the Angle Lapping and Staining Technique (Withdrawn 2003) (Includes all amendments And changes 8/16/2017).

Dostupné jazyky: Anglicky

Dostupné provedení: Online zabezpečené PDF

od 77.00 USD zobrazit na eshopu

Podrobné informace

Označení: ASTM F110-00a

Datum vydání: 10.12.2000

Stran: 4

Poznámka: Neplatná

Země: Americká technická norma

Kde koupit?

Můžete zakoupit na eshop.normservis.cz

Anotace

Keywords:
angle lapping, diffused layer, epitaxial layer, etching, fringe count, staining, thickness, ICS Number Code 29.045 (Semiconducting materials)

Populární vydavatelé

celý katalog