Potřebujeme Váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se Vám mimo jiné mohli ukazovat informace týkající se Vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Standard Test Method for Measuring Oxygen Concentration in Heavily Doped Silicon Substrates by Secondary Ion Mass Spectrometry (Includes all amendments And changes 3/2/2021).
Verfügbare Sprachen: Englisch
Verfügbare Ausführung: Sicheres Online-PDF
Bezeichnung: ASTM F1366-92(1997)e1
Ausgabedatum: 01.01.1992
Seiten: 5
Anmerkung: Ungültige
Land: Amerikanische technische Norm