Cookies
Potřebujeme Váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se Vám mimo jiné mohli ukazovat informace týkající se Vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Aktívna norma | Vydaná: 31.10.2025
GB/T 14847-2025
Test method for thickness of lightly doped silicon epitaxial layers on heavily doped silicon substrates—Infrared reflectance method
Dostupné jazyky: Anglicky a čínsky
Dostupné prevedenie: Elektronické PDF, Tlačené
od 205.90 EUR
zobraziť na eshopu
Podrobné informácie
Označenie: GB/T 14847-2025
Dátum vydania: 31.10.2025
Stránok: 0
Krajina: Čínska technická norma
Kde kúpiť?
Môžete zakúpiť na eshop.normservis.skPopulárna vydavatelia
DIN normy
BS normy
ASTM normy
ISO normy
IEC normy
Copyright © All rights reserved | This template is made with by Colorlib
