Cookies
Potřebujeme Váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se Vám mimo jiné mohli ukazovat informace týkající se Vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Aktivní norma | Vydána: 31.10.2025
GB/T 14847-2025
Test method for thickness of lightly doped silicon epitaxial layers on heavily doped silicon substrates—Infrared reflectance method
Dostupné jazyky: Anglicky a čínsky
Dostupné provedení: Elektronické PDF, Tištěné
od 4 972.50 CZK
zobrazit na eshopu
Podrobné informace
Označení: GB/T 14847-2025
Datum vydání: 31.10.2025
Stran: 0
Země: Čínská technická norma
Kde koupit?
Můžete zakoupit na eshop.normservis.czPopulární vydavatelé
DIN normy
BS normy
ASTM normy
ISO normy
IEC normy
Copyright © All rights reserved | This template is made with by Colorlib
