Cookies
Potřebujeme Váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se Vám mimo jiné mohli ukazovat informace týkající se Vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Aktívna norma | Vydaná: 30.10.2009
GB/T 24580-2009
Test method for measuring boron contamination in heavily doped n-type silicon substrates by secondary ion mass spectrometry
Dostupné jazyky: Anglicky a čínsky
Dostupné prevedenie: Elektronické PDF, Tlačené
od 5 753.20 CZK
zobraziť na eshopu
Podrobné informácie
Označenie: GB/T 24580-2009
Dátum vydania: 30.10.2009
Stránok: 0
Krajina: Čínska technická norma
Kde kúpiť?
Môžete zakúpiť na eshop.normservis.skPopulárna vydavatelia
DIN normy
BS normy
ASTM normy
ISO normy
IEC normy
Copyright © All rights reserved | This template is made with by Colorlib
