Cookies
Potřebujeme Váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se Vám mimo jiné mohli ukazovat informace týkající se Vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Aktivní norma | Vydána: 30.10.2009
GB/T 24580-2009
Test method for measuring boron contamination in heavily doped n-type silicon substrates by secondary ion mass spectrometry
Dostupné jazyky: Anglicky a čínsky
Dostupné provedení: Elektronické PDF, Tištěné
od 237.60 EUR
zobrazit na eshopu
Podrobné informace
Označení: GB/T 24580-2009
Datum vydání: 30.10.2009
Stran: 0
Země: Čínská technická norma
Kde koupit?
Můžete zakoupit na eshop.normservis.czPopulární vydavatelé
DIN normy
BS normy
ASTM normy
ISO normy
IEC normy
Copyright © All rights reserved | This template is made with by Colorlib
