Aktívna norma | Vydaná: 18.05.2004

ISO 17331:2004

Surface chemical analysis — Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
(Analyse chimique des surfaces — Méthodes chimiques pour collecter les éléments analysés de tranches de silicium comme matériaux de référence pour l´analyse par spectroscopie de fluorescence X en réflexion totale (TXRF))

Dostupné jazyky: Anglicky

Dostupné prevedenie: Elektronické PDF, Tlačené

od 129.00 EUR zobraziť na eshopu

Podrobné informácie

Označenie: ISO 17331:2004

Dátum vydania: 18.05.2004

Stránok: 18

Krajina: Medzinárodná technická norma

Kde kúpiť?

Môžete zakúpiť na eshop.normservis.sk

Anotácia

Description / Abstract: ISO 17331:2004 specifies chemical methods for the collection of iron and/or nickel from the surface of silicon-wafer working reference materials by the vapour-phase decomposition method or the direct acid droplet decomposition method. It applies to iron and/or nickel atomic surface densities from 6 times 10 to the power 9 atoms per square centimetre to 5 times 10 to the power 11 atoms per square centimetre.

Populárna vydavatelia

celý katalóg