Aktivní norma | Vydána: 18.05.2004

ISO 17331:2004

Surface chemical analysis — Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
(Analyse chimique des surfaces — Méthodes chimiques pour collecter les éléments analysés de tranches de silicium comme matériaux de référence pour l´analyse par spectroscopie de fluorescence X en réflexion totale (TXRF))

Dostupné jazyky: Anglicky

Dostupné provedení: Elektronické PDF, Tištěné

od 3 115.90 CZK zobrazit na eshopu

Podrobné informace

Označení: ISO 17331:2004

Datum vydání: 18.05.2004

Stran: 18

Země: Mezinárodní technická norma

Kde koupit?

Můžete zakoupit na eshop.normservis.cz

Anotace

Description / Abstract: ISO 17331:2004 specifies chemical methods for the collection of iron and/or nickel from the surface of silicon-wafer working reference materials by the vapour-phase decomposition method or the direct acid droplet decomposition method. It applies to iron and/or nickel atomic surface densities from 6 times 10 to the power 9 atoms per square centimetre to 5 times 10 to the power 11 atoms per square centimetre.

Populární vydavatelé

celý katalog