DIN - Německé národní normy

Testing of materials for semiconductor technology - Determination of trace elements in liquids - Part 5: Guideline for the selection of materials and testing of their suitability for apparatus for sampling and sample preparation for the determination of trace elements in the range of micrograms per kilogram and nanograms per kilogram.

Dostupné jazyky: Německy

Dostupné provedení: PDF - okamžité stažení, Tištěné

Testing of materials for semiconductor technology - Determination of traces of elements in liquids - Part 6: Determination of 36 elements in a high-purity ammonium fluoride solution (NH4; F) and in etching mixtures of high-purity ammonium fluoride solution containing hydrofluoric acid.

Dostupné jazyky: Německy

Dostupné provedení: PDF - okamžité stažení, Tištěné

Testing of materials for semiconductor technology - Determination of traces of elements in liquids - Part 7: Determination of 31 elements in high-purity hydrochloric acid by ICP-MS.

Dostupné jazyky: Německy

Dostupné provedení: PDF - okamžité stažení, Tištěné

Testing of materials for semiconductor technology - Determination of traces of elements in liquids - Part 8: Determination of 33 elements in high-purity sulfuric acid by ICP-MS.

Dostupné jazyky: Německy

Dostupné provedení: PDF - okamžité stažení, Tištěné

Testing of materials for semiconductor technology - Test method for particle analysis in liquids - Part 1: Microscopic determination of particles.

Dostupné jazyky: Anglicky, Německy

Dostupné provedení: PDF - okamžité stažení, Tištěné

Testing of materials for semiconductor technology - Test method for particle analysis in liquids - Part 2: Determination of particles by optical particle counters.

Dostupné jazyky: Německy

Dostupné provedení: PDF - okamžité stažení, Tištěné

Testing of materials for semiconductor technology - Determination of etch rates of etching mixtures - Part 1: Silicium monocrystals, gravimetric method.

Dostupné jazyky: Německy

Dostupné provedení: PDF - okamžité stažení, Tištěné

Testing of materials for semiconductor technology - Determination of etch rates of etching mixtures - Part 2: Silicon-dioxide coating, optical method.

Dostupné jazyky: Německy

Dostupné provedení: PDF - okamžité stažení, Tištěné

Testing of materials for semiconductor technology - Methods for characterizing photoresists - Part 1: Determination of coating thickness with optical methods.

Dostupné jazyky: Německy

Dostupné provedení: PDF - okamžité stažení, Tištěné

Testing of materials for semiconductor technology - Methods for the characterisation photoresists - Part 2: Determination of photosensitivity of positive photoresists.

Dostupné jazyky: Anglicky, Německy

Dostupné provedení: PDF - okamžité stažení, Tištěné