Cookies
Potřebujeme Váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se Vám mimo jiné mohli ukazovat informace týkající se Vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Neplatná | Vydána: 01.01.1992
ASTM F1366-92(2002) Neplatná
Standard Test Method for Measuring Oxygen Concentration in Heavily Doped Silicon Substrates by Secondary Ion Mass Spectrometry (Withdrawn 2003)
Dostupné jazyky: Anglicky
Dostupné provedení: Online zabezpečené PDF
od 77.80 EUR
zobrazit na eshopu
Podrobné informace
Označení: ASTM F1366-92(2002)
Datum vydání: 01.01.1992
Stran: 5
Poznámka: Neplatná
Země: Americká technická norma
Kde koupit?
Můžete zakoupit na eshop.normservis.czAnotace
Keywords:FTIR, oxygen, secondary ion mass spectometry, silicon, ICS Number Code 29.045 (Semiconducting materials)
Populární vydavatelé
DIN normy
BS normy
ASTM normy
ISO normy
IEC normy
Copyright © All rights reserved | This template is made with by Colorlib
