Potřebujeme Váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se Vám mimo jiné mohli ukazovat informace týkající se Vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Surface chemical analysis — Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
(Analyse chimique des surfaces — Détermination de la contamination en éléments a la surface des tranches de silicium par spectroscopie de fluorescence X a réflexion totale)
Dostupné jazyky: Anglicky
Dostupné provedení: Elektronické PDF, Tištěné
Označení: ISO 14706:2014-ed.2.0
Datum vydání: 25.07.2014
Stran: 25
Země: Mezinárodní technická norma