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Ungültige | Herausgegeben: 10.12.2002
ASTM F1727-02 Ungültige
Standard Practice for Detection of Oxidation Induced Defects in Polished Silicon Wafers (Withdrawn 2003)
Verfügbare Sprachen: Englisch
Verfügbare Ausführung: Sicheres Online-PDF, Gedruckt
ab 67.50 EUR
im E-Shop anzeigen
Detailinformationen
Bezeichnung: ASTM F1727-02
Ausgabedatum: 10.12.2002
Seiten: 3
Anmerkung: Ungültige
Land: Amerikanische technische Norm
Wo ist es zu kaufen?
Erhältlich auf www.technormen.deAnnotation
Keywords:defects, dislocation, epitaxy, hillock, imperfections, oxidation, preferential etch, shallow pit, silicon, slip, stacking fault, swirl, ICS Number Code 29.045 (Semiconducting materials)
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