Cookies
Potřebujeme Váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se Vám mimo jiné mohli ukazovat informace týkající se Vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Neplatné | Vydaná: 10.12.2002
ASTM F1727-02 Neplatné
Standard Practice for Detection of Oxidation Induced Defects in Polished Silicon Wafers (Withdrawn 2003)
Dostupné jazyky: Anglicky
Dostupné prevedenie: Online zabezpečené PDF, Tlačené
od 67.50 EUR
zobraziť na eshopu
Podrobné informácie
Označenie: ASTM F1727-02
Dátum vydania: 10.12.2002
Stránok: 3
Poznámka: Neplatné
Krajina: Americká technická norma
Kde kúpiť?
Môžete zakúpiť na eshop.normservis.skAnotácia
Keywords:defects, dislocation, epitaxy, hillock, imperfections, oxidation, preferential etch, shallow pit, silicon, slip, stacking fault, swirl, ICS Number Code 29.045 (Semiconducting materials)
Populárna vydavatelia
DIN normy
BS normy
ASTM normy
ISO normy
IEC normy
Copyright © All rights reserved | This template is made with by Colorlib
