Cookies
Potřebujeme Váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se Vám mimo jiné mohli ukazovat informace týkající se Vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Neplatná | Vydána: 10.12.2002
ASTM F1727-02 Neplatná
Standard Practice for Detection of Oxidation Induced Defects in Polished Silicon Wafers (Withdrawn 2003)
Dostupné jazyky: Anglicky
Dostupné provedení: Online zabezpečené PDF, Tištěné
od 67.50 EUR
zobrazit na eshopu
Podrobné informace
Označení: ASTM F1727-02
Datum vydání: 10.12.2002
Stran: 3
Poznámka: Neplatná
Země: Americká technická norma
Kde koupit?
Můžete zakoupit na eshop.normservis.czAnotace
Keywords:defects, dislocation, epitaxy, hillock, imperfections, oxidation, preferential etch, shallow pit, silicon, slip, stacking fault, swirl, ICS Number Code 29.045 (Semiconducting materials)
Populární vydavatelé
DIN normy
BS normy
ASTM normy
ISO normy
IEC normy
Copyright © All rights reserved | This template is made with by Colorlib
