Aktiv Normen | Herausgegeben: 01.06.2026

ISO 19383:2026

Atomic layer deposition — Chemical characteristics and related process specifications of atomic layer deposition precursors
(Dépôt de couches atomiques — Caractéristiques chimiques et spécifications de processus associées des précurseurs pour le dépôt de couches atomiques)

Verfügbare Sprachen: Englisch

Verfügbare Ausführung: Elektronische PDF, Gedruckt

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Detailinformationen

Bezeichnung: ISO 19383:2026

Ausgabedatum: 01.06.2026

Seiten: 13

Land: Internationale technische Norm

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Description / Abstract: This document defines the chemical characteristics and related process specifications of atomic layer deposition precursors, including assay content, metal purity and anion content specification.

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