Cookies
Potřebujeme Váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se Vám mimo jiné mohli ukazovat informace týkající se Vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Aktivní norma | Vydána: 01.06.2026
ISO 19383:2026
Atomic layer deposition — Chemical characteristics and related process specifications of atomic layer deposition precursors
(Dépôt de couches atomiques — Caractéristiques chimiques et spécifications de processus associées des précurseurs pour le dépôt de couches atomiques)
Dostupné jazyky: Anglicky
Dostupné provedení: Elektronické PDF, Tištěné
od 3 121.80 CZK
zobrazit na eshopu
Podrobné informace
Označení: ISO 19383:2026
Datum vydání: 01.06.2026
Stran: 13
Země: Mezinárodní technická norma
Kde koupit?
Můžete zakoupit na eshop.normservis.czAnotace
Description / Abstract: This document defines the chemical characteristics and related process specifications of atomic layer deposition precursors, including assay content, metal purity and anion content specification.Populární vydavatelé
DIN normy
BS normy
ASTM normy
ISO normy
IEC normy
Copyright © All rights reserved | This template is made with by Colorlib
