Cookies
Potřebujeme Váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se Vám mimo jiné mohli ukazovat informace týkající se Vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Aktívna norma | Vydaná: 01.06.2026
ISO 19383:2026
Atomic layer deposition — Chemical characteristics and related process specifications of atomic layer deposition precursors
(Dépôt de couches atomiques — Caractéristiques chimiques et spécifications de processus associées des précurseurs pour le dépôt de couches atomiques)
Dostupné jazyky: Anglicky
Dostupné prevedenie: Elektronické PDF, Tlačené
od 128.90 EUR
zobraziť na eshopu
Podrobné informácie
Označenie: ISO 19383:2026
Dátum vydania: 01.06.2026
Stránok: 13
Krajina: Medzinárodná technická norma
Kde kúpiť?
Môžete zakúpiť na eshop.normservis.skAnotácia
Description / Abstract: This document defines the chemical characteristics and related process specifications of atomic layer deposition precursors, including assay content, metal purity and anion content specification.Populárna vydavatelia
DIN normy
BS normy
ASTM normy
ISO normy
IEC normy
Copyright © All rights reserved | This template is made with by Colorlib
