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Aktiv Normen | Herausgegeben: 18.06.2019
ISO 21859:2019
Fine ceramics (advanced ceramics, advanced technical ceramics) — Test method for plasma resistance of ceramic components in semiconductor manufacturing equipment
(Céramiques techniques — Méthode d’essai pour déterminer la résistance au plasma des composants céramiques dans les équipements de production a semi-conducteurs)
Verfügbare Sprachen: Englisch
Verfügbare Ausführung: Elektronische PDF, Gedruckt
ab 65.10 USD
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Detailinformationen
Bezeichnung: ISO 21859:2019
Ausgabedatum: 18.06.2019
Seiten: 4
Land: Internationale technische Norm
Wo ist es zu kaufen?
Erhältlich auf www.technormen.deAnnotation
Description / Abstract: This document specifies a test method for plasma resistance of ceramic components in semiconductor manufacturing equipment. It is applicable to ceramic components of plasma-resistant components in dry etching chambers used in semiconductor manufacturing.Populäre Herausgeber
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