ISO 21859:2019 img
Aktívna norma | Vydaná: 18.06.2019

ISO 21859:2019

Fine ceramics (advanced ceramics, advanced technical ceramics) — Test method for plasma resistance of ceramic components in semiconductor manufacturing equipment
(Céramiques techniques — Méthode d’essai pour déterminer la résistance au plasma des composants céramiques dans les équipements de production a semi-conducteurs)

Dostupné jazyky: Anglicky

Dostupné prevedenie: Elektronické PDF, Tlačené

od 65.10 USD zobraziť na eshopu

Podrobné informácie

Označenie: ISO 21859:2019

Dátum vydania: 18.06.2019

Stránok: 4

Krajina: Medzinárodná technická norma

Kde kúpiť?

Môžete zakúpiť na eshop.normservis.sk

Anotácia

Description / Abstract: This document specifies a test method for plasma resistance of ceramic components in semiconductor manufacturing equipment. It is applicable to ceramic components of plasma-resistant components in dry etching chambers used in semiconductor manufacturing.
Loading
Cookies Cookies

Potřebujeme Váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se Vám mimo jiné mohli ukazovat informace týkající se Vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.

Souhlas můžete odmítnout zde.

Zde máte možnost přizpůsobit si nastavení souborů cookies v souladu s vlastními preferencemi.

Potřebujeme Váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se Vám mimo jiné mohli ukazovat informace týkající se Vašich zájmů.