Cookies
Potřebujeme Váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se Vám mimo jiné mohli ukazovat informace týkající se Vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Aktivní norma | Vydána: 18.06.2019
ISO 21859:2019
Fine ceramics (advanced ceramics, advanced technical ceramics) — Test method for plasma resistance of ceramic components in semiconductor manufacturing equipment
(Céramiques techniques — Méthode d’essai pour déterminer la résistance au plasma des composants céramiques dans les équipements de production a semi-conducteurs)
Dostupné jazyky: Anglicky
Dostupné provedení: Elektronické PDF, Tištěné
od 65.10 USD
zobrazit na eshopu
Podrobné informace
Označení: ISO 21859:2019
Datum vydání: 18.06.2019
Stran: 4
Země: Mezinárodní technická norma
Kde koupit?
Můžete zakoupit na eshop.normservis.czAnotace
Description / Abstract: This document specifies a test method for plasma resistance of ceramic components in semiconductor manufacturing equipment. It is applicable to ceramic components of plasma-resistant components in dry etching chambers used in semiconductor manufacturing.Populární vydavatelé
DIN normy
BS normy
ASTM normy
ISO normy
IEC normy
Copyright © All rights reserved | This template is made with by Colorlib
